EN | 中文
應用領域
應用領域

光電應用

專注於製作高精度金屬掩膜版,這些產品廣泛應用於電子束蒸發、熱蒸發、磁控濺射等真空鍍膜設備中,並用于製備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池、光電探測器、場效應電晶體等多種器件的圖形化薄膜和電極。

我們的金屬掩膜版也適合於教育機構、科研所和高科技公司實驗室使用,屬於高度客製化的產品。旭暉擁有強大的研發與製造能力,能夠依照客戶需求提供專業的掩膜版(遮罩)開發與製作服務。

Wafer Mask
Invar36/100um/精度 ±20um

G5.5Q 面板蒸鍍遮罩
Invar36/200um/精度±30um

設備零組件遮擋遮罩
SUS304/300um/精度±30um

車載應用蒸鍍遮罩
Invar36/200um/精度±30um

車載應用蒸鍍遮罩
Invar36/200um/精度±30um

光學微型編碼器零件
Invar36/100um/精度±30um

半導體設備零件
SUS304/300um/精度±30um

面板用蒸鍍遮罩
SUS430/250um/精度±30um

Wafer Mask
Invar36/100um/精度 ±20um

G5.5Q 面板蒸鍍遮罩
Invar36/200um/精度±30um

設備零組件遮擋遮罩
SUS304/300um/精度±30um

車載應用蒸鍍遮罩
Invar36/200um/精度±30um

車載應用蒸鍍遮罩
Invar36/200um/精度±30um

光學微型編碼器零件
Invar36/100um/精度±30um

半導體設備零件
SUS304/300um/精度±30um

面板用蒸鍍遮罩
SUS430/250um/精度±30um